Intel：對(duì)14nm工藝很滿意 再用12-18個(gè)月

Intel今天宣布在以色列投資50億美元升級(jí)晶圓廠，此舉意味著10nm工藝已經(jīng)提速，不過Intel的投資計(jì)劃需要兩年時(shí)間，而且目前10nm工藝良率問題還沒徹底解決。

我們已經(jīng)知道，14nm還將是Intel處理器的主力，現(xiàn)在的問題是14nm還要持續(xù)多久？

Intel副總裁今天在參加會(huì)議時(shí)提到在未來12-18個(gè)月內(nèi)，14nm工藝還會(huì)繼續(xù)改良，目前其性能已經(jīng)提升了70%。

Intel高級(jí)副總裁Murthy Renduchintala日前參加了JP摩根第46屆全球技術(shù)、媒體及通訊會(huì)議，分析師在這次會(huì)議上咨詢了很多有關(guān)Intel 10nm工藝延期的問題。

他首先解釋了Inte l10nm工藝為什么這么難纏的問題。

早在2014年Intel首次定義10nm工藝時(shí)，他們提出了非�？量痰哪繕�(biāo)——相比14nm工藝，10nm工藝的換算因數(shù)要達(dá)到2.7倍（scaling factor，衡量工藝先進(jìn)與否的一個(gè)重要指標(biāo)就是縮小到上一代的多少倍）。

而在22nm工藝升級(jí)到14nm時(shí)，新工藝的換算因素只是2.4倍，所以在10nm節(jié)點(diǎn)上Intel的團(tuán)隊(duì)具有非常宏偉的雄心壯志。

要想實(shí)現(xiàn)這樣的目標(biāo)，就需要很多的創(chuàng)新，因此Intel在這個(gè)過程中遇到了更多的挑戰(zhàn)，Renduchintala強(qiáng)調(diào)他們遇到的問題主要是良率上的，并非根本性問題。Intel知道如何解決問題，目前正在集中精力解決這些問題。

與此同時(shí)，他們也發(fā)現(xiàn)了14nm工藝還會(huì)潛力可挖。Renduchintala表示，從第一代14nm工藝到最新一代14nm工藝，其性能已經(jīng)提升了70%，這也給了Intel公司更多空間去解決10nm工藝的良率問題。

至于未來的情況，Renduchintala強(qiáng)調(diào)他們還會(huì)不斷努力解決10nm工藝的良率問題，也對(duì)14nm處理器路線圖感覺滿意，在未來12-18個(gè)月還會(huì)讓它們繼續(xù)保持領(lǐng)先。